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气相沉积技术按照成膜机理可分为化学气相沉积、物理气相沉积和等离子体气相沉积。气相沉积栏目主要讲述了化学气相沉积技术和工艺，物理气相沉积原理等气相沉积技术。...
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物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄......
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物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，并通过低压气体（或等离子体）过程，在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄......
